特許
J-GLOBAL ID:200903035199397471
ピペリジル基含有高分子及び該高分子の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
羽鳥 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-044494
公開番号(公開出願番号):特開2007-224094
出願日: 2006年02月21日
公開日(公表日): 2007年09月06日
要約:
【課題】耐候性導電材料などに有用なピペリジル基含有高分子を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表されるピペリジル基含有高分子。(式中、Aは、炭化水素基を表し、R1は、炭素数2〜18の炭化水素基又は直接結合を表し、nは、1〜100の数を表す。mは、2〜100000の数を表す。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表されるピペリジル基含有高分子。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (17件):
4J005AA09
, 4J005BA00
, 4J100AB07P
, 4J100BA02H
, 4J100BA02P
, 4J100BA72P
, 4J100BC65H
, 4J100CA01
, 4J100CA31
, 4J100DA01
, 4J100DA56
, 4J100HA19
, 4J100HA44
, 4J100HA61
, 4J100HC39
, 4J100HC63
, 4J100JA45
引用特許:
出願人引用 (3件)
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二次電池
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-325185
出願人:日本電気株式会社
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二次電池用活物質
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-026047
出願人:日本電気株式会社
-
特開平4-332728号公報
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