特許
J-GLOBAL ID:200903035199397471

ピペリジル基含有高分子及び該高分子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 羽鳥 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-044494
公開番号(公開出願番号):特開2007-224094
出願日: 2006年02月21日
公開日(公表日): 2007年09月06日
要約:
【課題】耐候性導電材料などに有用なピペリジル基含有高分子を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表されるピペリジル基含有高分子。(式中、Aは、炭化水素基を表し、R1は、炭素数2〜18の炭化水素基又は直接結合を表し、nは、1〜100の数を表す。mは、2〜100000の数を表す。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表されるピペリジル基含有高分子。
IPC (2件):
C08F 8/30 ,  C08G 65/26
FI (2件):
C08F8/30 ,  C08G65/26
Fターム (17件):
4J005AA09 ,  4J005BA00 ,  4J100AB07P ,  4J100BA02H ,  4J100BA02P ,  4J100BA72P ,  4J100BC65H ,  4J100CA01 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100DA56 ,  4J100HA19 ,  4J100HA44 ,  4J100HA61 ,  4J100HC39 ,  4J100HC63 ,  4J100JA45
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 二次電池
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-325185   出願人:日本電気株式会社
  • 二次電池用活物質
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-026047   出願人:日本電気株式会社
  • 特開平4-332728号公報

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