特許

J-GLOBAL ID：200903035214629449

亜硫酸ガスを含むガスを被処理ガスとする脱硫方法

発明者： 若林 中 ,  梅原 洋一 ,  曽根原 尚徳 ,  木村 隆志
出願人/特許権者： 千代田化工建設株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-060334
公開番号（公開出願番号）：特開平7-241441
出願日： 1994年03月03日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】 低濃度のSO2を含むガスからそのSO2を連続的にかつ長時間にわたって除去する方法を提供すること。【構成】 亜硫酸ガス、酸素及び水蒸気を含むガスを被処理ガスとして用いる脱硫方法において、(i)被処理ガス中の亜硫酸ガス濃度が100volppm以下であること、(ii)被処理ガスを活性炭層を流通させ、その活性炭層中において亜硫酸ガスと酸素とを接触酸化させて三酸化イオウに変換させるとともに、この三酸化イオウを水分と反応させて希硫酸を生成させること、(iii)活性炭層から活性炭層中で生成した希硫酸分を連続的に分離すること、(iv)活性炭層を形成する活性炭の接触硫酸化速度Rが5μmmol/g/hr以上であること、(v)被処理ガスを活性炭層を流通させることにより得られる被処理ガスの接触脱硫率Yが少なくとも80%であること、を特徴とする亜硫酸ガスを低濃度で含むガスの脱硫方法。

請求項（抜粋）：

亜硫酸ガス、酸素及び水蒸気を含むガスを被処理ガスとして用いる脱硫方法において、(i)被処理ガス中の亜硫酸ガス濃度が100volppm以下であること、(ii)被処理ガスを活性炭層を流通させ、その活性炭層中において亜硫酸ガスと酸素とを接触酸化させて三酸化イオウに変換させるとともに、この三酸化イオウを水分と反応させて希硫酸を生成させること、(iii)活性炭層から活性炭層中で生成した希硫酸分を連続的に分離すること、(iv)活性炭層を形成する活性炭の接触硫酸化速度Rが5μmol/g/hr以上であること(v)被処理ガスを活性炭層を流通させることにより得られる被処理ガスの接触脱硫率Yが少なくとも80%であること、を特徴とする亜硫酸ガスを低濃度で含むガスの脱硫方法。

IPC (4件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/81 ,  B01J 21/18 ZAB

FI (2件)：

B01D 53/36 ZAB D ,  B01D 53/34 123 A

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭61-086929