特許
J-GLOBAL ID:200903035223523890
軟磁性薄膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 晃 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-206051
公開番号(公開出願番号):特開平5-047552
出願日: 1991年08月16日
公開日(公表日): 1993年02月26日
要約:
【要約】【目的】 高温での熱処理後にも低い保磁力を示し、しかも高飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜を提供する。【構成】 Feベース軟磁性薄膜に、適量の酸素を導入し、結晶粒を微細化する。微細化された結晶粒径は、600Å以下である。また、酸素の導入量は、30原子%以下とする。Feベース軟磁性薄膜は、Fe単独からなるものであってもよいし、FeにSi、Al、Ti、Ta、Nb、Ga、V、W、Yから選ばれた少なくとも1種を添加したものであってもよい。
請求項(抜粋):
(Fea Mb )100-x Ox 〔ただし、MはSi、Al、Ti、Ta、Nb、Ga、V、W、Yより選ばれた少なくとも1種を表し、a,b,xは各元素の割合(原子%)を表す。〕なる組成式で表され、その組成範囲が70≦a≦1000≦b≦300≦x≦30a+b=100であるとともに、平均結晶粒径が600Å以下であることを特徴とする軟磁性薄膜。
IPC (3件):
H01F 10/14
, C22C 38/00 303
, H01F 41/18
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