特許

J-GLOBAL ID：200903035227869546

不活性ガス雰囲気炉

発明者： 鶴見 浩一 ,  島崎 新二
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-008912
公開番号（公開出願番号）：特開平5-215472
出願日： 1992年01月22日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【目的】 残存酸素を除去し、不活性ガスの消費量を大幅に削減できる不活性ガス雰囲気炉を提供する。【構成】 被処理物を不活性ガス炉内に搬送する機構4およびその被処理物を加熱する機構2等を有する不活性ガス雰囲気炉において、酸化反応を生じさせる物質を利用して炉内の残存酸素を除去する酸素除去部1を有する構成よりなる。上記酸化反応を生じさせる物質には、炭素系材料、鉄系材料、半田材料等がある。

請求項（抜粋）：

被処理物を不活性ガス炉内に搬送する機構および被処理物を加熱する機構等を有する不活性ガス雰囲気炉において、酸化反応を生じさせる物質を利用して前記不活性ガス雰囲気炉内の残存酸素を除去する酸素除去部を有することを特徴とする不活性ガス雰囲気炉。

IPC (8件)：

F27D 7/06 ,  B01D 53/34 120 ,  B23K 1/008 ,  B23K 31/02 310 ,  F27B 9/04 ,  H05K 3/34 ,  H05K 3/12 ,  B23K101:42

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭56-003410
  
• 特開平3-268864