特許

J-GLOBAL ID：200903035231680741

フォトマスク管理システム

発明者： 野副 真理 ,  水野 文夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-222577
公開番号（公開出願番号）：特開平9-051028
出願日： 1995年08月08日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【目的】 レチクルの保管、検査を自動的に管理する。【構成】 複数のレチクル1を個々のレチクルに付された識別コードによって識別して所定の場所にそれぞれ保管する保管庫11と、各レチクルの異物を検査して結果を出力する異物検査装置20と、両者11と20とを連絡通路36で連絡してレチクルを受け渡す受渡し装置35とを備え、保管庫、異物検査装置、受渡し装置は統括コントローラ40により統括制御されるように構成されている。【効果】 保管庫に保管されたレチクルの異物検査に際し、レチクルを受渡し装置で保管庫から異物検査装置に移送できるため、保管されたレチクルの異物検査を人間の介在なしに自動かつ正確に実施でき、レチクルを常に正常に維持できる。異物検査データを記憶し統括コントローラで同一レチクルのデータ同士を照合してデータを活用でき、異物検査装置の検査の精度を高めることができる。

請求項（抜粋）：

複数のフォトマスクを各フォトマスクに付された識別コードによって識別して所定の場所にそれぞれ保管する保管庫と、各フォトマスクの欠陥を検査してその検査結果を出力する欠陥検査装置と、保管庫および欠陥検査装置の間でフォトマスクを相互に受け渡す受渡し装置とを備えており、保管庫、欠陥検査装置および受渡し装置は統括コントローラに接続されて統括して制御されるように構成されていることを特徴とするフォトマスク管理システム。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  G03F 1/08 ,  G05B 19/418 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

H01L 21/68 A ,  G03F 1/08 R ,  H01L 21/66 Z ,  G05B 15/02 S ,  H01L 21/30 503 E