回折格子プロツター

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-231956
公開番号（公開出願番号）：特開平5-072406
出願日： 1991年09月11日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：

【要約】【目的】本発明は、外部からの振動に対して強く、任意の空間周波数を持った任意の方向の回折格子を任意の位置に連続して均一に作製することが可能で、装置作製が容易で光の利用効率も極めて高いことを最も主要な特徴としている。【構成】乾板を移動,回転させるX-Y-θステージと、レーザー光源と、レーザービームを開閉によって露光,非露光するシャッターと、そのレーザービームを2本に分岐する光分岐手段と、一方のレーザービームを参照ビームとして乾板上に入射させる第1の光学系と、他方のレーザービームを反射させる所定方向に平行移動自在な移動ミラー、反射光を物体ビームとして乾板上に参照ビームと同一位置に入射させる結像手段からなる第2の光学系と、画像データを基にX-Y-θステージ、シャッター、移動ミラーを制御する制御手段を備えたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レーザー光を用い、その2光束干渉によって回折格子を作製する装置において、回折格子を形成するための感光材料を塗布した乾板が載置され、当該乾板を移動,回転させるX-Y-θステージと、レーザービームを発生するレーザー光源と、前記レーザー光源からのレーザービームを受け、その開閉によって露光,非露光を行なうシャッターと、前記シャッターからのレーザービームを2本のレーザービームに分岐する光分岐手段と、前記光分岐手段からの一方のレーザービームを、参照ビームとして前記乾板上に入射させる第1の光学系と、前記光分岐手段からの他方のレーザービームを受けて反射させる、所定方向に平行移動自在な移動ミラー、および当該移動ミラーからの反射光を物体ビームとして前記乾板上に前記参照ビームと常に同一位置に入射させる結像手段からなる第2の光学系と、読み取られた画像データに基づいて、前記X-Y-θステージの移動,回転、前記シャッターの開閉、および前記移動ミラーの移動位置をそれぞれ制御する制御手段と、を備えて成ることを特徴とする回折格子プロッター。

IPC (2件)：

G02B 5/18 , G03F 7/20 505

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平3-206401
特開平3-064702
特開平1-108517

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