特許

J-GLOBAL ID：200903035253988294

排水処理システム

発明者： 依田 俊明 ,  大越 信吾
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 木下 實三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-055761
公開番号（公開出願番号）：特開2002-254072
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月10日
要約：

【要約】【課題】 複数の設備から排出される複数種の物質を含む排水から有害物質などの特定物質を効率的に、かつ、経済的に除去することができる排水処理システムを提供する。【解決手段】 複数の設備A〜Dから排出される複数種の物質を含む排水を処理する排水処理システムであって、複数の設備A〜Dから排出される排水を合流した下流側に配置される総合排水処理装置11と、特定物質を排出する少なくとも一つの設備A〜Cの後段に配置されその設備から排出される排水中の特定物質を主として除去する個別排水処理装置21〜23とを備える。総合排水処理装置11は、個別排水処理装置21〜23が除去する物質を除く他の物質を主として除去する構成を備える。

請求項（抜粋）：

複数の設備から排出される複数種の物質を含む排水を処理する排水処理システムであって、前記複数の設備から排出される排水を合流した下流側に配置されその排水中の汚染物質を除去する第1の処理手段と、前記複数の設備のうち特定物質を排出する少なくとも一つの設備の後段に配置されその設備から排出される排水中の特定物質を主として除去する第2の処理手段とを備えることを特徴とする排水処理システム。

IPC (3件)：

C02F 1/28 ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/00 ZAB

FI (3件)：

C02F 1/28 F ,  C02F 1/00 C ,  C02F 1/00 ZAB J

Fターム (12件)：

4D024AA04 ,  4D024AB04 ,  4D024AB11 ,  4D024BA02 ,  4D024BA03 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024CA01 ,  4D024DB03 ,  4D024DB14 ,  4D024DB21 ,  4D024DB24