特許

J-GLOBAL ID：200903035259502709

反射防止体およびその製造方法

発明者： 緒方 敬三 ,  望月 正一 ,  島田 健志郎 ,  佐藤 馨一
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-156692
公開番号（公開出願番号）：特開2003-344607
出願日： 2002年05月30日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】本発明は、透明基材にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を形成することにより、簡便かつ安価にして十分な反射防止性を有した耐擦傷性の優れた反射防止体およびその製造方法を提供する。【解決手段】透明基材に被覆された電子線硬化型反射防止層を、加速電圧を120kV以下で電子線を照射して、電子線により硬化させてなる反射防止体である。さらには反射防止層が、屈折率が1.60以上の高屈折率層と屈折率が1.60未満の低屈折率層を交互に2層以上積層した層である上記反射防止体である。また、高屈折率層が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化錫または酸化ニオブ のいずれか1種または2種以上の超微粒子の金属酸化物を含有する上記反射防止体である。低屈折率層が、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムもしくは酸化ケイ素の超微粒子の金属化合物、フッ素樹脂またはシリコーン樹脂のいずれか1種または2種以上を含有する上記反射防止体である。

請求項（抜粋）：

透明基材に被覆された電子線硬化型反射防止層を、加速電圧を120kV以下で電子線を照射して、電子線により硬化させてなることを特徴とする反射防止体。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/00 ,  G02B 1/12

FI (4件)：

B32B 7/02 103 ,  B32B 27/00 N ,  G02B 1/12 ,  G02B 1/10 A

Fターム (38件)：

2K009AA03 ,  2K009AA15 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD17 ,  4F100AA05E ,  4F100AA20E ,  4F100AA21D ,  4F100AA25D ,  4F100AA26D ,  4F100AA28D ,  4F100AK01B ,  4F100AK17E ,  4F100AK25 ,  4F100AK52E ,  4F100AK79E ,  4F100AT00A ,  4F100BA08 ,  4F100BA25 ,  4F100DE01E ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ53 ,  4F100EJ532 ,  4F100EJ86 ,  4F100EJ862 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JN01A ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18D ,  4F100JN18E

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-314527   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 特開平3-192546
  
• 防眩性フィルム及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-252995   出願人：凸版印刷株式会社