特許

J-GLOBAL ID：200903035262065387

投影露光装置

発明者： 安田 雅彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 梶原 康稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-028408
公開番号（公開出願番号）：特開平10-214780
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：

【要約】【課題】 マスクに生じたたわみを検出して補正し、マスクパターンの投影を良好に行う。【解決手段】 自重あるいは熱的な膨張など,何らかの理由によってマスク10がたわむと、マスクたわみ検出系22によってそのたわみが検出され、検出結果は演算装置32に出力される。演算装置32では、入力されたマスクたわみ検出系22による検出結果に基づいて、マスク10のたわみ量が演算され、更にはマスクたわみ補正装置38における気圧制御量が算出される。この気圧制御量は気圧制御装置34に供給され、気圧制御装置34によってマスクたわみ補正装置38の気密室40の気圧がマスク10のたわみを補正するように制御される。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を露光対象に投影する投影露光装置において、前記マスクのたわみを検出するたわみ検出手段と;前記マスクのたわみを補正するたわみ補正手段と;前記マスクたわみ検出手段による検出結果に基づいて前記たわみ補正手段におけるたわみ補正量を演算する演算手段と;この演算手段によって演算されたたわみ補正量に応じて前記たわみ補正手段を制御する制御手段と;を備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 503 D ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 516 F