特許
J-GLOBAL ID：200903035267904166
メソポーラスシリカの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-074912
公開番号（公開出願番号）：特開2004-277270
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】広い領域にわたり、規則的なヘキサゴナル構造を有するメソポーラスシリカを容易に製造する方法を提供する。【解決手段】細孔配置がヘキサゴナル構造のメソポーラスシリカの製造方法であって、(1)シリカ源を含む水溶液及びヘキサゴナル構造を形成し得る界面活性剤を含む水溶液を混合する工程、(2)得られた混合液のpHを8〜12に調整する工程、(3)pH調整した混合液を昇温速度0.5〜2°C/分で100〜125°Cまで加熱した後、当該温度で12〜120時間保持して結晶化する工程、及び(4)上記工程(3)で得られた生成物から界面活性剤を除去する工程を含む製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
細孔配置がヘキサゴナル構造のメソポーラスシリカの製造方法であって、
(1)シリカ源を含む水溶液及びヘキサゴナル構造を形成し得る界面活性剤を含む水溶液を混合する工程、
(2)得られた混合液のpHを8〜12に調整する工程、
(3)pH調整した混合液を昇温速度0.5〜2°C/分で100〜125°Cまで加熱した後、当該温度で12〜120時間保持して結晶化する工程、及び
(4)上記工程(3)で得られた生成物から界面活性剤を除去する工程
を含む製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
4G073BC02
, 4G073CZ54
, 4G073FB01
, 4G073FB33
, 4G073FC18
