特許

J-GLOBAL ID：200903035274632600

プラズマ発生装置

発明者： 津田 睦 ,  斧 高一 ,  土橋 祐亮 ,  花崎 稔 ,  米村 俊雄 ,  奥 康二 ,  中隈 信治
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-262047
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102799
出願日： 1997年09月26日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】 均一な分布の高密度なプラズマを、広い動作ガス圧力範囲のもとで、安定に発生・維持することを可能とするようなプラズマ発生装置を提供することを目的とする。【解決手段】 マイクロ波を導波する導波管5と、この導波管5が接続され、放電ガスを供給する手段としてのガス供給口1aおよび真空排気手段(図示せず)に接続される排気口1bを備えた真空容器1と、この真空容器1に挿入された管状の誘電体部材からなる誘電体管10と、この誘電体管10に上記マイクロ波を放射する手段であるアンテナ9を備えたプラズマ発生装置とする。

請求項（抜粋）：

マイクロ波を導波する導波管と、この導波管が接続され、放電ガスを供給する手段および真空排気手段を備えた真空容器と、この真空容器に挿入された管状あるいは棒状の誘電体部材と、この誘電体部材に上記マイクロ波を放射する手段を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

H05H 1/46 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭55-131175
  
• 特開昭63-051098
  
• 特開平4-136177
  
• プラズマプロセス装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-100498   出願人：住友金属工業株式会社