特許
J-GLOBAL ID：200903035284239702
パターン検査方法およびパターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-375246
公開番号（公開出願番号）：特開2003-172710
出願日： 2001年12月10日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：
【要約】【課題】 微細なパターンについても、その配置の疎密等に影響を受けることなく、そのパターンを正確に認識することで、パターン検査の精度向上を図る。【解決手段】 フォトマスク上に形成されたパターンPを撮像し、その撮像によって得られる画像に基づいて当該パターンPの検査を行う場合に、その検査に先立ち、複数サイズのパターン構成図形がそれぞれ複数種類のピッチで配されたパターンを有する補正用マスクを用意し、その補正用マスク上のパターンの撮像結果である画像とその設計値とを比較し、その比較結果を基に前記画像についての補正値テーブルを作成する。そして、検査対象となるパターンPの撮像結果を前記補正値テーブルを用いて補正し、その補正後の撮像結果に基づいて当該パターンPの検査を行うようにする。
請求項（抜粋）：
フォトマスク上に形成されたパターンを撮像し、その撮像によって得られる画像に基づいて当該パターンの検査を行うパターン検査方法であって、複数サイズのパターン構成図形がそれぞれ複数種類のピッチで配されたパターンを有する補正用マスクを用意し、前記補正用マスク上に形成されたパターンを撮像し、その撮像結果である画像から得られる値と前記補正用マスク上のパターンの設計値とを比較し、その比較によって特定される双方の相違点を基に前記画像についての補正値テーブルを作成し、その後に、検査対象となるパターンを撮像するとともに、その撮像結果の画像を前記補正値テーブルを用いて補正して、当該パターンの検査を行うことを特徴とするパターン検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/956 A
, G03F 1/08 S
2G051AA56
, 2G051AB20
, 2G051CA04
, 2G051CB02
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051ED11
, 2H095BD04
, 2H095BD14
, 2H095BD28
