特許

J-GLOBAL ID：200903035285707980

光学素子およびその表面形状の作製方法

発明者： 大森 滋人
出願人/特許権者： 大森 滋人 ,  科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 佐野 静夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-316113
公開番号（公開出願番号）：特開2002-122710
出願日： 2000年10月17日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：

【要約】【課題】 比較的大きな凹凸に微細構造が重なった光学素子の表面形状を精度よく作製する方法を提供する。【解決手段】 機械的加工により高低差100μm以上の凹凸を表面に有する基板を作製し、基板の表面に厚さ1μm程度のレジスト層を設けて、電子線描画によりレジストを微細構造として、凹凸に微細構造が重なった表面形状を得る。この表面形状を転写して雌型を作製し、雌型を用いて成形により光学素子を製造する。

請求項（抜粋）：

光学素子の表面形状の作製方法において、表面に凹凸を有する基板の上に電子線に感応するレジストの層を設け、電子線を照射してレジストを微細構造とすることにより、基板の凹凸にレジストの微細構造が重なった表面形状を得ることを特徴とする光学素子の表面形状の作製方法。

IPC (5件)：

G02B 3/00 ,  B29C 39/10 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/18 ,  B29L 11:00

FI (6件)：

G02B 3/00 Z ,  G02B 3/00 A ,  B29C 39/10 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/18 ,  B29L 11:00

Fターム (12件)：

2H049AA04 ,  2H049AA31 ,  2H049AA39 ,  2H049AA43 ,  2H049AA48 ,  4F204AD05 ,  4F204AD08 ,  4F204AH74 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EK17 ,  4F204EK18