特許
J-GLOBAL ID：200903035286360428
プラズマエッチング方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213306
公開番号（公開出願番号）：特開平6-037056
出願日： 1992年07月16日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 ウェーハ面内の選択比の均一性を良好にする。【構成】 エッチングチャンバ1内に設けたウェーハ載置電極3と、これに対向する対向電極2のいずれか一方又は両方の周辺部に中央部とは別の温度制御可能な部分を設け、この温度制御可能な部分に対向電極周辺部用チラー12及びウェーハ載置電極周辺部用チラー11のいずれか一方又は両方を連通し、電極の中央部と周辺部とで温度差を持たせる。
請求項（抜粋）：
エッチングチャンバ内に対向して設けられたウェーハ載置電極と対向した電極に、それぞれ個別に交流電力を供給し、エッチングチャンバ内にエッチングガスを流通させてウェーハをプラズマエッチングする方法において、前記電極の中央部と周辺部とをそれぞれ個別に温度制御することを特徴とするプラズマエッチング方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
