特許

J-GLOBAL ID：200903035314706068

高分子量ポリアミドの製造方法

発明者： 土岐 司 ,  稲葉 泰夫 ,  原田 正広
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-294415
公開番号（公開出願番号）：特開平6-145343
出願日： 1992年11月02日
公開日（公表日）： 1994年05月24日
要約：

【要約】【目的】 ゲル状物質が少なく、特にフィルム・シート用に好適な高分子量ポリアミドの製造方法を提供する。【構成】 ジカルボン酸としてアジピン酸、ジアミンとして下式(1)に示す化合物を使用して高分子量ポリアミドを製造するに際し、鉱酸濃度が1ppm以下のアジピン酸を使用することを特徴とする高分子量ポリアミドの製造方法。【化1】H2 N-CH2 -R-CH2 -NH2 (1)(式中、Rは炭素数2〜10の直鎖または分岐鎖を有するアルキレン基、メタフェニレン基、パラフェニレン基、1,3-シクロヘキシル基、1,4-シクロヘキシル基のうちのいずれかである。)

請求項（抜粋）：

ジカルボン酸としてアジピン酸、ジアミンとして下式(1)に示す化合物を使用して高分子量ポリアミドを製造するに際し、鉱酸濃度が1ppm以下のアジピン酸を使用することを特徴とする高分子量ポリアミドの製造方法。【化1】H2 N-CH2 -R-CH2 -NH2 (1)(式中、Rは炭素数2〜10の直鎖または分岐鎖を有するアルキレン基、メタフェニレン基、パラフェニレン基、1,3-シクロヘキシル基、1,4-シクロヘキシル基のうちのいずれかである。)

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-104654
  
• 特開昭62-079225
  
• 特開昭49-053945