特許

J-GLOBAL ID：200903035324261382

キノフタロン化合物

発明者： 大山 司 ,  下河 靖 ,  合田 勇 ,  越田 均 ,  詫摩 啓輔
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-196624
公開番号（公開出願番号）：特開平5-039269
出願日： 1991年08月06日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式(1)【化1】[式中、R1 は水素原子、アルコキシ基、置換あるいは非置換のフェノキシ基、チオアルコキシ基、置換あるいは非置換のチオフェノキシ基、ハロゲン原子を示し、R2 ,R3 ,R4 およびR5 は、水素原子、C1 〜C8 のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、置換あるいは非置換のフェニルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボニル基、置換あるいは非置換のフェノキシ基、置換あるいは非置換のフェノキシカルボニル基、又はハロゲン原子を示し、隣接基同志で環を形成しても良い。]で示されるキノフタロン化合物。【効果】 この化合物は液晶材料や有機高分子材料の着色等に有用である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)【化1】[式中、R1 は水素原子、アルコキシ基、置換あるいは非置換のフェノキシ基、チオアルコキシ基、置換あるいは非置換のチオフェノキシ基、ハロゲン原子を示し、R2 ,R3 ,R4 およびR5 は、水素原子、C1 〜C8 のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、置換あるいは非置換のフェニルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボニル基、置換あるいは非置換のフェノキシ基、置換あるいは非置換のフェノキシカルボニル基、又はハロゲン原子を示し、隣接基同志で環を形成しても良い。]で示されるキノフタロン化合物。

IPC (4件)：

C07D215/20 ,  C07D215/22 ,  C07D215/36 ,  C09B 25/00