特許

J-GLOBAL ID：200903035328271420

PZT薄膜の製法およびそれにより得られたPZT構造体

発明者： 佐藤 明生 ,  神原 紀雄
出願人/特許権者： 東海ゴム工業株式会社
代理人 (1件)： 西藤 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-186859
公開番号（公開出願番号）：特開2002-012423
出願日： 2000年06月21日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
要約：

【要約】【課題】水熱合成に使用する混合アルカリ水溶液にTiイオンを安定的に供給することができ、PZT薄膜の形成が終了したのちに冷却工程をとるようにしたPZT薄膜の製法およびそれにより得られたPZT構造体を提供する。【解決手段】チタン成分を表面に有する基板を下記(A)または(B)のアルカリ水溶液中に保持して100〜250°Cの温度で水熱合成することにより上記基板表面にPZT薄膜を形成するPZT薄膜の製法であって、所定の製造段階で、下記(A)または(B)のアルカリ水溶液に、下記(B)のアルカリ水溶液を追加供給する工程を備えている。(A)鉛化合物およびジルコニウム化合物を含有するアルカリ水溶液。(B)鉛化合物,ジルコニウム化合物,およびチタン化合物を含有するアルカリ水溶液。

請求項（抜粋）：

チタン成分を表面に有する基板を下記(A)または(B)のアルカリ水溶液中に保持して100〜250°Cの温度で水熱合成することにより上記基板表面にPZT薄膜を形成するPZT薄膜の製法であって、所定の製造段階で、下記(A)または(B)のアルカリ水溶液に、下記(B)のアルカリ水溶液を追加供給する工程を備えていることを特徴とするPZT薄膜の製法。(A)鉛化合物およびジルコニウム化合物を含有するアルカリ水溶液。(B)鉛化合物,ジルコニウム化合物,およびチタン化合物を含有するアルカリ水溶液。

IPC (3件)：

C01G 25/00 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/24

FI (3件)：

C01G 25/00 ,  H01L 41/18 101 Z ,  H01L 41/22 A

Fターム (5件)：

4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC02 ,  4G048AD02 ,  4G048AE05