特許
J-GLOBAL ID：200903035339779590
プラズマ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-329575
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144771
出願日： 1991年11月18日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 マイクロ波プラズマ装置を小型化した場合、或いは基板の面積が大きくなった場合、基板中央付近の反応生成物を十分排気しきれずに基板面内でエッチング速度や膜堆積速度が不均一になるのを防ぐ。【構成】 マイクロ波プラズマ装置において、発信管1からでた電磁波をプラズマ発生室18に導入する導波管2に真空排気装置4が接続されており、導波管2を通してプラズマ発生室18内の基板9中央付近のガスを排気する。
請求項（抜粋）：
導波管を通してプラズマ発生室内に導入された電磁波を用いてプラズマを発生させ、前記プラズマを利用して試料を処理するプラズマ装置において、前記導波管に真空排気装置を接続し、前記導波管をプラズマ発生室の排気路として併用することを特徴とするプラズマ装置。
IPC (6件)：
H01L 21/302
, C23C 16/50
, C30B 25/02
, C30B 25/18
, H01L 21/31
, H05H 1/46
