特許
J-GLOBAL ID：200903035341835163
スピンプロセッサ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-164469
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008222
出願日： 1994年06月22日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】 液相洗浄および気相洗浄それぞれのメリットを充分生かせる洗浄装置を提供する。【構成】 スピンプロセッサ10は、洗浄チャンバ1内で回転するロータ2を備える。ロータ2の内部には洗浄液をスプレィする洗浄液供給管16が突き出し、洗浄チャンバ1には洗浄ガス供給管18が接続される。洗浄時、SiウェーハWをセットしたキャリア9がロータ2内部に置かれ、モータ3によって回転されながら洗浄液が噴射され、液相洗浄がおこなわれる。液相洗浄後、こんどは洗浄ガス供給管18よりHFベーパーが導入され、ロータ2の穴11を介してキャリア9内に導かれ、液相洗浄によって付着した酸化膜が気相洗浄される。酸化膜除去後は乾燥がないために従来の洗浄処理よりも工程数が少なくなり、双方のメリットを生かした洗浄処理が可能となる。
請求項（抜粋）：
洗浄チャンバと、被洗浄物を収納して前記洗浄チャンバ内で回転可能なロータと、洗浄チャンバに接続され、回転する前記ロータの内部に液体洗浄剤を供給する洗浄液供給管と、洗浄チャンバに接続され、ロータ内部に気体洗浄剤を供給する洗浄ガス供給管とを備えたことを特徴とするスピンプロセッサ。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/02
, B08B 7/04
