特許

J-GLOBAL ID：200903035345687533

基板処理装置

発明者： 野々村 正浩
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 杉谷 勉 ,  戸高 弘幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-076612
公開番号（公開出願番号）：特開2009-231628
出願日： 2008年03月24日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：

【課題】装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能を向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Wを水平姿勢で保持する基板保持部1と、基板Wに接触して基板Wを洗浄する洗浄ブラシ7と、洗浄ブラシ7の側方に設けられ、処理液の液滴をキャリアガスとともに基板に噴射して基板を洗浄する二流体ノズル9と、洗浄ブラシ7と二流体ノズル9とを保持する保持アーム5と、この保持アーム5に連結して設けられ、基板W面に沿って洗浄ブラシ7と二流体ノズル9とを移動させる単一のアーム移動機構と、を備えている。このように構成される基板処理装置によれば、洗浄ブラシ7と二流体ノズル9を移動させる単一のアーム移動機構を備えているので、装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能が一層向上させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に処理を行う基板処理装置において、 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、 基板に接触して基板を洗浄する洗浄ブラシと、 前記洗浄ブラシの側方に設けられ、処理液の液滴をキャリアガスとともに基板に噴射して基板を洗浄する二流体ノズルと、 前記洗浄ブラシと前記二流体ノズルとを基板面に沿って移動させる単一の移動手段と、 を備えていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 1/04 ,  B08B 7/04 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  G03F 1/08

FI (8件)：

H01L21/304 644C ,  H01L21/304 643A ,  B08B3/02 B ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 A ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  G03F1/08 X

Fターム (55件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  2H095BB19 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB34 ,  3B116AB47 ,  3B116BA02 ,  3B116BA13 ,  3B116BB22 ,  3B116BB38 ,  3B116BB44 ,  3B116BB88 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CD43 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BA02 ,  3B201BA13 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB44 ,  3B201BB88 ,  3B201CB12 ,  3B201CB25 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD43 ,  5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB90 ,  5F157AC26 ,  5F157BA02 ,  5F157BA13 ,  5F157BA31 ,  5F157BB22 ,  5F157BB37 ,  5F157BB44 ,  5F157CB04 ,  5F157CB13 ,  5F157CE25 ,  5F157CE27 ,  5F157CF72 ,  5F157DC31

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-182839   出願人：大日本スクリーン製造株式会社