特許

J-GLOBAL ID：200903035347652060

化学処理装置

発明者： 川崎 清弘
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-087352
公開番号（公開出願番号）：特開2000-279900
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：

【要約】【課題】 IPA水溶液を処理液とする洗浄装置、またはIPA水溶液をリンス液とするレジスト剥離装置において、IPA水溶液中に溶け込む微少な汚れ異物のため、IPA水溶液の使用量が増大し公害対策が必要である。【解決手段】 IPA水溶液の循環系統49に電界を印可して微少異物を凝集・付着させて除去する電界異物除去装置70を設けることにより、IPA水溶液の循環使用を可能としてIPA水溶液の使用量を削減する。

請求項（抜粋）：

搬入された基板に薬液を供給して化学処理を行なう処理室と、基板に付いた前記薬液を液切りする機構と、上記処理室の基板搬出側に隣接して設けられ化学処理を施された基板に純水を供給して洗浄を行なう水洗室と、上記水洗室の基板搬出側に隣接して設けられた乾燥室とを有する化学処理装置において、処理室と水洗室との間にリンス液としてIPA水溶液を基板に供給するリンス室を設け、前記リンス室で使用するIPA水溶液を循環使用するための薬液タンクと循環ポンプとよりなる循環系統に電界を印可して異物やパーティクルの沈積または凝集を行う異物除去手段を設け、上記IPA水溶液を液切りして回収する液切り手段を設けた化学処理装置。

IPC (2件)：

B08B 3/08 ,  H01L 21/304 648

FI (2件)：

B08B 3/08 A ,  H01L 21/304 648 F

Fターム (14件)：

3B201AA03 ,  3B201AA04 ,  3B201AB13 ,  3B201BB02 ,  3B201BB03 ,  3B201BB24 ,  3B201BB89 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB98 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22