特許

J-GLOBAL ID：200903035352988867

ネガ型フォトレジスト組成物

発明者： 植田 裕治 ,  竹山 尚幹 ,  植木 裕美 ,  楠本 武宏
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-044553
公開番号（公開出願番号）：特開平5-241342
出願日： 1992年03月02日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：

【要約】【目的】 遠紫外線リソグラフィ用に適しており、解像度、感度及び耐熱性等の諸性能に優れたネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 一般式(I)【化1】〔式中、R1 〜R10は、これらの中少なくとも1つは-OHであり、該-OHに対してo-及びp-位の中少なくとも2つは水素であるという条件付きで、各々水素、ハロゲン、アルキル基又は-OHを表わす。〕で示される化合物を含むフェノール類とアルデヒド類とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び酸発生剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】〔式中、R1 〜R10は、これらの中少なくとも1つは-OH基であり、該-OH基に対してo-及びp-位の中少なくとも2つは水素原子であるという条件付きで、各々水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基又は-OH基を表わす。〕で示される化合物を含むフェノール類とアルデヒド類とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び酸発生剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027