特許
J-GLOBAL ID:200903035356940320

水素分離膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-316290
公開番号(公開出願番号):特開平5-078810
出願日: 1991年11月29日
公開日(公表日): 1993年03月30日
要約:
【要約】【目的】 欠陥がなく水素透過性能に優れる水素分離膜を簡易に製造できる方法を提供する。【構成】 セラミック多孔体あるいは金属多孔体を基材とし、この基材表面に減圧プラズマ溶射法によりパラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成する。また、パラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成した後、当該膜の最表面をレーザビームにより加熱溶融する。さらに、金属多孔体表面にセラミクスを溶射した後、パラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成し、その後高温加熱処理する。
請求項(抜粋):
セラミック多孔体あるいは金属多孔体を基材とし、この基材表面に減圧プラズマ溶射法によりパラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成することを特徴とする水素分離膜の製造方法。
IPC (2件):
C23C 4/08 ,  C23C 4/18

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