特許

J-GLOBAL ID：200903035367173517

レジスト用樹脂組成物の製造方法

発明者： 岡崎 栄一 ,  新田 正夫 ,  中川 純江 ,  太田 博之
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-332122
公開番号（公開出願番号）：特開平8-160616
出願日： 1994年12月12日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：

【要約】【目的】感光性に優れ、その未硬化膜がアルカリ現像性に優れ、しかも得られる硬化膜が密着性、電気絶縁性、ハンダ耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐酸性及び耐メッキ性に優れるレジスト用樹脂組成物の製造方法、特にソルダーレジストとして優れているレジスト用樹脂組成物の製造方法の提供。【構成】1個のエポキシ基を有する(メタ)アクリレートと、該(メタ)アクリレート以外で1個のエチレン性不飽和基を有する単量体の1種類以上とからなる共重合体中のエポキシ基に対して、1個以上のエチレン性不飽和基と1個のカルボキシル基を有する単量体を付加反応させた後、該付加反応生成物中のヒドロキシル基に、更に二価カルボン酸無水物を付加反応させるレジスト用樹脂組成物の製造方法、及び該方法により得られた組成物からなるフォトソルダーレジスト。

請求項（抜粋）：

1個のエポキシ基を有する(メタ)アクリレートと、該(メタ)アクリレート以外で1個のエチレン性不飽和基を有する単量体の1種類以上とからなる共重合体中のエポキシ基に対して、1個以上のエチレン性不飽和基と1個のカルボキシル基を有する単量体を付加反応させた後、該付加反応生成物中のヒドロキシル基に、更に二価カルボン酸無水物を付加反応させることを特徴とするレジスト用樹脂組成物の製造方法。

IPC (6件)：

G03F 7/027 515 ,  C08F299/00 MRN ,  C08G 59/14 NHF ,  C08G 59/17 NHG ,  C08G 59/40 NKH ,  H05K 3/28