特許

J-GLOBAL ID：200903035377374715

下水、排水の高度処理方法

発明者： 松尾 育朗
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
代理人 (1件)： 中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-336854
公開番号（公開出願番号）：特開平11-165192
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、下水や排水を再利用出来る程の十分な水質を得ることが出来、且つ、高い濾過流束を長時間維持することが出来、更には広大な設置場所を必要としない下水、排水の高度処理方法を提供することを可能にすることを目的としている。【解決手段】 下水二次処理水または工場排水からなる原水1中にオゾンを添加するオゾン処理2を行い、オゾン耐性膜による膜濾過処理3を行う。次いで必要に応じて残留オゾンの中和4を行った後、その濾過水を逆浸透膜で逆浸透膜処理5を行うことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

下水二次処理水または工場排水を原水として、これを高度処理する下水、排水の高度処理方法において、前記原水中にオゾンを添加すると共にオゾン耐性膜を用いて濾過し、次いでその濾過水を逆浸透膜で処理することを特徴とする下水、排水の高度処理方法。

IPC (8件)：

C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  B01D 61/08 ,  B01D 71/32 ,  C02F 1/44 ZAB ,  C02F 1/78

FI (10件)：

C02F 9/00 502 D ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 504 B ,  B01D 61/08 ,  B01D 71/32 ,  C02F 1/44 ZAB K ,  C02F 1/78