特許

J-GLOBAL ID：200903035382837057

X線マスク構造体、X線露光装置及びX線露光方法

発明者： 千葉 啓子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-027544
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198482
出願日： 1992年01月20日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】 従来技術の問題点を解決し、帯電防止性や寸法精度に優れたX線マスク構造体、X線露光装置及びX線露光方法を提供すること。【構成】 所望パターンのX線吸収体と該吸収体を保持するX線透過膜とこれらを保持する保持枠とを有するX線マスク構造体において、該保持枠の最外周部がイオン注入されており、少なくともその一部がX線透過膜上に形成された導電膜と導通していることを特徴とするX線マスク構造体、及びこれらのX線マスク構造体を使用するX線露光装置及びX線露光方法。

請求項（抜粋）：

所望パターンのX線吸収体と該吸収体を保持するX線透過膜とこれらを保持する保持枠とを有するX線マスク構造体において、該保持枠の最外周部がイオン注入されており、少なくともその一部がX線透過膜上に形成された導電膜と導通していることを特徴とするX線マスク構造体。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 331 M ,  H01L 21/30 331 A ,  H01L 21/30 331 E