特許
J-GLOBAL ID:200903035389127390

光導波路機能素子及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田中 増顕
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-347624
公開番号(公開出願番号):特開平5-158005
出願日: 1991年12月04日
公開日(公表日): 1993年06月25日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 剥離に対して強固な保護膜を持った光導波路機能素子を得る。【構成】 ニオブ酸リチウム基板10上の電極13を覆うようにSiO2 /TiO2 14,15の保護膜を設ける。なおTiO2 はTiをアニールを行うことによって作成し、そのとき、電極間抵抗を所望の値になるようにアニール時間を調節する。
請求項(抜粋):
光導波路を形成したニオブ酸リチウム基板と、基板上に設けられたSiO2 のバッファ層と、バッファ層上に設けた電極と、バッファ層と電極を覆うように設けられかつアニールによって抵抗値を変化させたSiO2 /TiO2 保護膜とを有することを特徴とする光導波路機能素子。
IPC (3件):
G02F 1/035 ,  G02B 6/12 ,  G02F 1/31

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