特許
J-GLOBAL ID：200903035403708970
減圧CVD装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾川 秀昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-276116
公開番号（公開出願番号）：特開平8-115885
出願日： 1994年10月14日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：
【要約】【目的】 炉口にOリング5を介してフロントフランジ4を取り付け、該フロントフランジ10に別のOリング7を介してシャッター6を当てて上記炉口を塞ぐようにし、上記フロントフランジ4に上記各Oリング5、6を冷却する冷却手段8、9を設けた減圧CVD装置において、フロントフランジ4の内周面10にて反応ガスが冷却されて反応生成物が付着、堆積するのを防止する。【構成】 フロントフランジ4内にその内周面10を加熱する加熱手段11、12を設ける。加熱は例えばヒーター12で行い、熱電対13等の温度検出手段による温度検出結果に応じてヒーター12を温度が一定になるように駆動制御する。
請求項（抜粋）：
炉口にフロントフランジをOリングを介して取り付け、該フロントフランジに別のOリングを介してシャッターを当てて上記炉口を塞ぐようにし、上記フロントフランジに上記各Oリングを冷却する冷却手段を設けた減圧CVD装置において、上記フロントフランジ内にその内周面を加熱する加熱手段を設けたことを特徴とする減圧CVD装置
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44
, H01L 21/31
