特許

J-GLOBAL ID：200903035406020790

感光性樹脂組成物およびレジストの製造法

発明者： ▲こい▼渕 滋 ,  橋本 通晰
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-268536
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118644
出願日： 1992年10月07日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】現像後のレジストの断面形状が矩形状で、耐熱性が高く、しかも波長365nmの露光において基板上からの光反射の少ない高解像度の感光性樹脂組成物およびこれを用いたレジストの製造法を提供する。【構成】アルカリ水溶液可溶性ノボラック樹脂(A)と一般式(I)(ただし、式中のDは、水素原子、1,2-ナフトキノン-(2)-ジアジド-5または4-スルホニル基を意味し、Dの少なくとも1つは1,2-ナフトキノン-(2)-ジアジド-5または4-スルホニル基である)で表される感光剤またはこれらの感光剤の混合物(B)とを含有し、かつ一般式(II)例、2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、で表される紫外線吸収剤(C)を含んでなる感光性樹脂組成物およびこの組成物を基板に塗布、乾燥した後、露光、現像することを特徴とするレジストの製造法。

請求項（抜粋）：

アルカリ水溶液可溶性ノボラック樹脂(A)と一般式(I)【化1】(ただし、式中のDは、水素原子、1,2-ナフトキノン-(2)-ジアジド-5-スルホニル基または1,2-ナフトキノン-(2)-ジアジド-4-スルホニル基を意味し、Dの少なくとも1つは1,2-ナフトキノン-(2)-ジアジド-5-スルホニル基または1,2-ナフトキノン-(2)-ジアジド-4-スルホニル基である)で表される感光剤またはこれらの感光剤の混合物(B)とを重量比で(A)/(B)=90/10〜70/30の範囲で含有し、さらに(A)および(B)の総量100重量部に対して一般式(II)【化2】(ただし、式中のR1およびR2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R3は水素原子またはハロゲン原子を意味し、R1とR2は同一でも異なってもよい)で表される紫外線吸収剤(C)を0.1〜10重量部の範囲で含んでなる感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027