Ag合金薄膜及びその成膜用スパッタリングターゲット

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：西澤利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-280744
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102325
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】電気抵抗値がAlよりも低抵抗であり、耐薬品性及び耐熱性が高く、基板等との密着性が良くパターニング性に優れ、膜の積層数及び加工工程数があまり多くならないフラットパネルディスプレイ用等Ag合金薄膜と、成膜速度が速く、使用済み材料の回収が容易で安価であるスパッタリング材料を提供する。【解決手段】フラットパネルディスプレイ用の電極膜と反射膜及び遮光膜の製造に用いられる金属薄膜であって、実質的にAg-Ru-Cuの3元素合金からなる薄膜であるとともに、該薄膜は、電気抵抗率が13μΩcm以下であり、膜厚が90nmにおける膜面側平均反射率が可視光領域で93%以上、同時に光学濃度が4.0以上であるAg合金薄膜とし、また、実質的にAg-Ru-Cuの3元素合金からなり、且つその組成比は重量分率で、75≦Ag<100wt%、0<Ru<25wt%、0<Cu<25wt%であるAg合金スパッタリングターゲットとする。

請求項（抜粋）：

フラットパネルディスプレイ用の電極膜と反射膜及び遮光膜の製造に用いられる金属薄膜であって、実質的にAg-Ru-Cuの3元素合金からなる薄膜であるとともに、該薄膜は、電気抵抗率が13μΩcm以下であり、膜厚が90nmにおける膜面側平均反射率が可視光領域で93%以上、同時に光学濃度が4.0以上であることを特徴とするAg合金薄膜。

IPC (8件)：

H01L 21/285 , G02B 5/00 , G02B 5/08 , G02F 1/1335 520 , G02F 1/1343 , G02F 1/1365 , H01J 11/02 , H01L 29/786

FI (9件)：

H01L 21/285 S , G02B 5/00 B , G02B 5/08 A , G02F 1/1335 520 , G02F 1/1343 , H01J 11/02 B , G02F 1/136 500 , H01L 29/78 617 J , H01L 29/78 619 B

Fターム (49件)：

2H042AA02 , 2H042AA26 , 2H042DA04 , 2H042DC02 , 2H091FA14Y , 2H091FA34Y , 2H091FB08 , 2H091FC01 , 2H091FC29 , 2H091GA02 , 2H091GA13 , 2H091LA30 , 2H091MA10 , 2H092HA02 , 2H092HA05 , 2H092JA37 , 2H092JB21 , 2H092JB51 , 2H092JB54 , 2H092MA05 , 2H092MA35 , 2H092PA12 , 2H092RA10 , 4M104AA10 , 4M104BB08 , 4M104BB38 , 4M104CC01 , 4M104DD40 , 4M104GG20 , 4M104HH09 , 4M104HH16 , 5C040GC05 , 5C040GC18 , 5C040GC19 , 5C040JA07 , 5C040KA02 , 5C040KB17 , 5C040KB29 , 5C040MA10 , 5C040MA12 , 5C040MA23 , 5F110AA03 , 5F110CC07 , 5F110EE06 , 5F110EE44 , 5F110GG02 , 5F110GG15 , 5F110NN46 , 5F110NN80

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