特許
J-GLOBAL ID:200903035419217860

浸透印の製造方法及びその方法により製造された浸透印

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤本 博光 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-113956
公開番号(公開出願番号):特開平10-264491
出願日: 1997年05月01日
公開日(公表日): 1998年10月06日
要約:
【要約】【課題】 一度の捺印で複数種のインキからなる印影を作成し、境界による切れ目のない複数種のインキからなる印影を形成する。【解決手段】 複数種のインキ2a〜2dを所望の配置に充填するために、上下に貫通した充填口1aが充填部材1に複数形成されている。印材3は連続多孔構造を有し、ベースプレート4に載置されて充填部材1に重ね合わされる。インキ2a〜2dは充填口1aにより区分けされた領域に充填されており、充填口1aにより区分けされた領域の配置とほぼ同様の配置で印材3内へ充填されていく。複数種のインキ2a〜2dは充填口1aにより区分けされ、互いに混ざり合わないようになっており、その状態のまま充填部材1に重ね合わされた連続多孔構造を持つ印材3に充填される。
請求項(抜粋):
連続多孔構造を有する印材にインキを充填することにより、繰り返し捺印することを可能とした浸透印の製造方法において、上下に貫通した充填口が複数形成された充填部材を連続多孔構造を有する一つの印材に重ね合わせる工程と、少なくとも2種類以上のインキを区分けして前記各充填口に注入して前記印材に複数のインキを充填する工程とを含むことを特徴とする浸透印の製造方法。
FI (2件):
B41K 1/50 A ,  B41K 1/50 M

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