特許

J-GLOBAL ID：200903035423526215

基板洗浄装置及び基板洗浄方法

発明者： 佐藤 雅伸 ,  平得 貞雄 ,  安田 周一 ,  森西 健也
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-351830
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270564
出願日： 2001年11月16日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】基板表面の微細なパーティクルを十分に除去し、基板表面の洗浄力を向上させることが可能な基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。【解決手段】基板Wの回転中止Paを中心として回転させられている基板Wの表面上に、洗浄ノズル7より液滴の洗浄液が吐出される。洗浄ノズル7は、その胴部7bに空気を吐出する気体吐出ノズル100と、純水を吐出する液体吐出ノズル200が配置される。気体吐出口101から吐出された空気と液体吐出口201から吐出された純水は、その衝突部位Gでの入射角度αが0度以上で110度以下の範囲に設定される。そして、空気と純水が空中にて混合し、噴霧状となした液滴の洗浄液にて基板面が洗浄される。

請求項（抜粋）：

基板洗浄装置であって、液体を吐出する液体吐出手段と、前記液体吐手段に近接して気体を吐出する気体吐出手段と、を備え、前記液体吐出手段から吐出される液体を、空中にて前記気体吐出手段より吐出された気体と混合し、生成した液滴の洗浄液を基板面に衝突させることにより洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 648 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G11B 5/84

FI (6件)：

H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 G ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G11B 5/84 Z

Fターム (13件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JB04 ,  2H090JC19 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA04 ,  5D112BA09 ,  5D112GA08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-186369
  
• 処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-154435   出願人：東京エレクトロン株式会社