特許
J-GLOBAL ID:200903035431711846
干渉計及び投影露光装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
古谷 史旺
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-369870
公開番号(公開出願番号):特開2004-198348
出願日: 2002年12月20日
公開日(公表日): 2004年07月15日
要約:
【課題】本発明は、被検物の透過波面を複屈折から受ける影響も含めて正確に測定することのできる干渉計を提供する。【解決手段】干渉計(1)に、直線偏光の光を射出する光源(11)と、その直線偏光の光を互いの振動方向が直交し互いの進行方向が同じである2つの直線偏光の光の混合光に変換する非偏光生成光学系(12)とを備える。その結果、干渉計(1)から射出される測定光(L)の波面に対する被検物(18)の複屈折の影響は、ランダムな非偏光の光の波面に対するそれとほぼ同じになる。したがって、干渉計(1)は、被検物(18)の透過波面を複屈折から受ける影響も含めて正確に測定することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
直線偏光の光を射出する光源と、
前記直線偏光の光を、互いの振動方向が直交し互いの進行方向が同じである2つの直線偏光の光の混合光に変換する非偏光生成光学系と
を備えたことを特徴とする干渉計。
IPC (4件):
G01B9/02
, G01M11/02
, G01N21/23
, H01L21/027
FI (4件):
G01B9/02
, G01M11/02 B
, G01N21/23
, H01L21/30 516C
Fターム (34件):
2F064BB03
, 2F064EE05
, 2F064FF01
, 2F064GG00
, 2F064GG11
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG33
, 2F064GG39
, 2F064GG44
, 2F064GG47
, 2F064GG49
, 2F064GG51
, 2F064GG59
, 2F064HH03
, 2G059AA02
, 2G059BB08
, 2G059EE05
, 2G059EE09
, 2G059GG01
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ14
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059JJ22
, 2G059JJ23
, 2G059JJ30
, 2G086HH06
, 5F046BA03
, 5F046DB05
, 5F046DB11
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