特許
J-GLOBAL ID：200903035440818408
コールドウォール形処理装置のクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-309258
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226270
出願日： 1992年10月23日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】[目的]コールドウォール形処理装置内を隅々まで効果的にクリーニングすることができ、かつ特別な除去装置を必要としないクリーニング方法を提供する。[構成]処理容器10内に、常温の下で、ClF3 をN2 ガスで希釈したクリーニングガスを供給して、クリーニングを行う。この際、プラズマをかけることはしない。ClF3 ガスは非常に活性であるため、常温下でも反応してW被膜およびWSi 被膜をエッチングする。ClF3 ガスが処理容器10内の隅々まで十分に行きわたるようにクリーニングガスの圧力、流量が制御されることで、処理容器10内の隅々まで各部のW被膜およびWSi 被膜が除去される。クリーニングの排ガスは、容器底面10aの排気口42から排気管44を介してポンプ46へ送られ、ポンプ46から除去装置48へ送られる。
請求項（抜粋）：
コールドウォール形の処理装置の内部をクリーニングする方法において、前記処理装置内の温度を常温〜約400 ゚Cに維持した状態で前記処理装置内にClF3 を含むクリーニングガスを供給し、前記処理装置内に付着した被膜を除去するようにしたことを特徴とするクリーニング方法。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/00
, H01L 21/285
, H01L 21/31
