特許
J-GLOBAL ID：200903035444985708
磁性多層膜作製の装置および方法、膜作製の評価方法、膜作製の制御方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-018935
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235223
出願日： 2003年01月28日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
【課題】金属酸化物等を絶縁膜とするようなデバイス製造の一連の工程における膜の酸化工程中に、その膜の酸化状態を常に管理して、過不足なく膜の酸化工程を行う磁性多層膜作製の装置および方法、膜作製の評価方法、膜作製の制御方法を提供する。【解決手段】基板22に複数の磁性膜を含む多層膜を作製する複数の処理チャンバと、基板を大気から遮断した状態で搬送する搬送装置11と、金属膜の処理チャンバ18を有し、この処理チャンバに、多層膜に含まれる金属膜を処理する処理装置と、金属膜の表面状態を光学的に評価する光学的測定装置60,61,62と、この光学的測定装置から出力される測定信号に基づいて処理装置の動作を制御する制御装置63を備えるように構成される。成膜装置内で基板に多層膜を形成するとき、基板を大気に晒すことなく、金属膜の処理工程中に、当該金属膜の表面状態を管理でき、その金属膜の処理を過不足なく行える。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板に複数の磁性膜を含む多層膜を作製する複数の処理チャンバと、膜が堆積された前記基板を大気から遮断した状態で搬送する搬送手段と、金属膜の処理チャンバを有する磁性多層膜作製装置において、
前記金属膜の処理チャンバに、前記多層膜に含まれる金属膜を処理する処理手段と、前記金属膜の状態を光学的に評価する光学的測定手段と、この光学的測定手段から出力される測定信号に基づいて前記処理手段の動作を制御する制御手段を備えたことを特徴とする磁性多層膜作製装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
4K029BA03
, 4K029BC07
, 4K029CA05
, 4K029DC03
, 4K029GA02
