特許
J-GLOBAL ID：200903035447738876
中空構造体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-231289
公開番号（公開出願番号）：特開平8-095572
出願日： 1994年09月27日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：
【要約】【目的】 薄い中空部を有する中空構造体をえる。【構成】 スペーサ4を介して隔てられた複数の基体3,6間の一部に中空部5を有する中空構造体において、該スペーサ4が低融点有機物から成る。中空部5は、基体間に設けられた低融点有機物層の少なくとも一部を気化蒸発することにより形成した。
請求項（抜粋）：
スペーサを介して隔てられた複数の基体間の一部に中空部を有する中空構造体において、該スペーサが低融点有機物から成ることを特徴とする中空構造体。
IPC (5件)：
G10K 9/122
, B05D 1/20
, B23K 26/00
, G01L 9/04 101
, H01L 29/84
