特許
J-GLOBAL ID：200903035466896920
超短レーザーパルスを使用するレーザー装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
大渕 美千栄
, 布施 行夫
, 伊奈 達也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-501829
公開番号（公開出願番号）：特表2007-526521
出願日： 2005年02月24日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
超短レーザーパルスを使用するレーザー装置を提供する。本発明の別の態様では、装置は、レーザーと、パルス整形器と、検出装置とを含む。本発明の別の態様は、フェムト秒レーザーと二位相パルス整形(BPS)を採用する。本発明のさらに別の態様は、レーザービームパルスと、パルス整形器と、SHG結晶とを使用する。
請求項（抜粋）：
a)フェムト秒レーザービームパルスを放出するレーザーと、
b)前記パルスを整形する二位相整形器と、
c)前記レーザー及び前記整形器を制御するコントローラーと、
を含む装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2K002AB33
, 2K002BA02
, 2K002CA02
, 2K002EB12
, 2K002HA13
