特許
J-GLOBAL ID：200903035481375081

プラズマ閉じ込めのためのウエハ領域圧力制御

発明者：
テジュン・ハン

テジュン・ハン について

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ベンジン・デイビッド・ダブリュ.

ベンジン・デイビッド・ダブリュ. について

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エリングボエ・アルバート・アール.

エリングボエ・アルバート・アール. について


出願人/特許権者：
ラム リサーチ コーポレーション

ラム リサーチ コーポレーション について


代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-533335
公開番号（公開出願番号）：特表2004-511096
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】改善されたウエハ領域圧力制御を提供するプラズマ処理室を実現する。【解決手段】プラズマ処理室は、プラズマを発生し維持するために接続される装置を持つ真空チャンバである。この装置の一部は、エッチング用ガス源および排気口である。閉じ込めリングはウエハ上の領域を定義する。ウエハ領域圧力はこの閉じ込めリングにわたる圧力降下に依存する。閉じ込めリングは、100%より大きいウエハ領域圧力制御範囲を提供するウエハ領域圧力制御装置の一部である。そのようなウエハ領域圧力制御装置は、所望のウエハ領域圧力制御を提供するのに用いられるホルダ上の3つの調節可能閉じ込めリングおよび閉じ込めブロックでありえる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
圧力を制御する装置であって、 真空チャンバと、 前記真空チャンバと流体的に結合されている排気口と、 前記真空チャンバと流体的に結合されているガス源と、 ウエハ領域圧力制御装置とを備え、前記ウエハ領域圧力制御装置は、 前記真空チャンバ内の第1調節可能閉じ込めリングと、 前記真空チャンバ内の第2調節可能閉じ込めリングと、 前記真空チャンバ内の調節可能閉じ込めブロックと、 前記第1調節可能閉じ込めリング、前記第2調節可能閉じ込めリング、および前記調節可能閉じ込めブロックを上げ下げするコントローラと、 を備える装置。
IPC (6件)：
H01L21/3065 ,  B01J3/00 ,  B01J3/02 ,  B01J19/08 ,  C23F4/00 ,  H05H1/46
FI (6件)：
H01L21/302 101B ,  B01J3/00 J ,  B01J3/02 K ,  B01J19/08 H ,  C23F4/00 A ,  H05H1/46 A
Fターム (22件)：
4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075BC06 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21 ,  4G075ED13 ,  4G075EE02 ,  4K057DA16 ,  4K057DD01 ,  4K057DG08 ,  4K057DG13 ,  4K057DM38 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB28 ,  5F004BC02 ,  5F004BC03 ,  5F004CA02
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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