特許

J-GLOBAL ID：200903035485667591

1,4-ジシラシクロヘキサ-2,5-ジエン環を有するケイ素化合物およびその製造方法

発明者： 田中 正人 ,  山下 浩
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-068019
公開番号（公開出願番号）：特開平7-252268
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 1,4-ジシラシクロヘキサ-2,5-ジエン環を有する新規ケイ素化合物およびその製造方法を提供する。【構成】 式(III)のケイ素化合物。〔例えば、ポリ[m-フェニレン(1,1,3,4,4,6-ヘキサメチル-1,4-ジシラシクロヘキサ-2,5-ジエン-2,5-イレン)]ポリ[m-フェニレン(1,1,3,4,4,5-ヘキサメチル-1,4-ジシラシクロヘキサ-2,5-ジエン-2,6-イレン)]〕

請求項（抜粋）：

一般式X-(SiR1 R2 )3 -X (I)(式中、Xはハロゲン原子を表わし、R1 およびR2 は、アルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、あるいはアリーロキシ基の中から選ばれる互いに同一あるいは相異なる1価の基を表わす。)で表わされるジハロトリシラン類と、一般式R3 -C≡C-R4 -C≡C-R3 (II)(式中、R3 は、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリーロキシ基、ハロアルキル基、シロキシアルキル基、あるいはアルコキシカルボニル基の中から選ばれる1価の基を表わし、R4 は、芳香族炭化水素、複素環、あるいは脂肪族炭化水素から2原子の水素原子を除外した構造の2価の基を表わす。)で表されるジイン類とを、パラジウム触媒存在下反応させることを特徴とする、一般式【化1】(式中、R1 、R2 、R3 、およびR4 は前記一般式(I)および(II)中におけるものと同じである。またm,nは、m+n≧2の関係を満たす0以上の整数である。)で表される構造を有するケイ素化合物の製造方法。

IPC (3件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/18 ,  C08G 77/60 NUM