特許

J-GLOBAL ID：200903035488417880

光学基板及びその製造方法並びに光学装置

発明者： 吉澤 睦美 ,  西川 尚男 ,  高桑 敦司
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-308251
公開番号（公開出願番号）：特開2003-115579
出願日： 2001年10月04日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【課題】 簡単に膜のパターンを得ることができる光学基板及びその製造方法並びに光学装置を提供することにある。【解決手段】 スタンプ10に、膜パターン20を形成するための材料がスタンプ10の表面よりも優先的に堆積される表面修飾膜14を形成する。表面修飾膜14に、膜パターン20を形成するための材料を堆積させる。スタンプ10に膜パターン20を形成する。膜パターン20を、スタンプ10から光透過性基板30に転写する。

請求項（抜粋）：

(a)スタンプに膜パターンを形成し、(b)前記膜パターンを、前記スタンプから光透過性基板に転写することを含み、前記(a)工程で、前記膜パターンを形成するための材料が前記スタンプの表面よりも優先的に堆積される表面修飾膜を前記スタンプに形成し、前記表面修飾膜に、前記膜パターンを形成するための材料を堆積させる光学基板の製造方法。

IPC (7件)：

H01L 27/14 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 ,  H04N 5/335

FI (7件)：

G02B 3/00 A ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 ,  H04N 5/335 V ,  H01L 27/14 D

Fターム (40件)：

2H042AA09 ,  2H042AA15 ,  2H042AA26 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA62 ,  2H048BA66 ,  2H048BB01 ,  2H048BB08 ,  2H048BB47 ,  2H090JA03 ,  2H090JA06 ,  2H090JA19 ,  2H090JB03 ,  2H090JB05 ,  2H090JC03 ,  2H090JD01 ,  2H090LA05 ,  2H090LA12 ,  2H090LA16 ,  2H091FA29Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FA41Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC12 ,  2H091FC19 ,  2H091FD04 ,  2H091GA01 ,  2H091LA12 ,  4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118CA04 ,  4M118FA06 ,  4M118GB06 ,  4M118GD04 ,  5C024CY47 ,  5C024EX21 ,  5C024EX43 ,  5C024GX01