特許

J-GLOBAL ID：200903035501243039

微小焦点X線発生装置

発明者： アルフレート ラインホルト
出願人/特許権者： メディクステック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング メディツィーニッシェ ゲレーテ
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-528067
公開番号（公開出願番号）：特表平10-503618
出願日： 1996年03月16日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】微小焦点X線発生装置において、集束化された電子ビームがX線ビーム生成のためターゲット(23)の制動材料上に当てられる。焦点(22)にて制動材料は、高い熱負荷により少なくとも液状の集合状態に移行する。この理由から当該装置は、パルス作動モードで作動され、ここで、ターゲット(23)上での焦点(22)の位置が各照射と共に先行の位置に対してずらされる。制動材料が担体層(33)上の制動層(32)内に配置されており、電子ビーム(16)は、電子ビーム(16)のほうに配向された制動層(32)に垂直方向に当てられる。制御部は、遅くとも担体層(33)の溶融の際照射を中断するように構成されている。

請求項（抜粋）：

微小焦点X線発生装置であって、集束化された電子ビームがX線ビーム生成のためターゲット(23)の制動材料上に当てられ、焦点(22)にて制動材料は、高い熱負荷により少なくとも液状の集合状態に移行し、ターゲット(23)上での焦点(22)の位置が各照射と共に先行の位置に対してずらされている当該の装置において、 前記制動材料は、担体層(33)上に制動層(32)内に配置されており、電子ビーム(16)は、電子ビーム(16)のほうに配向された制動層(32)に垂直に当てられ、制御部(34)が設けられており、該制御部は、遅くとも担体層(33)の溶融の際電子ビーム(16)を中断するように構成されていることを特徴とする微小焦点X線発生装置。

IPC (2件)：

H01J 35/08 ,  H01J 35/24

FI (2件)：

H01J 35/08 A ,  H01J 35/24