戻り光遮断用光源装置及びガス分析装置並びに戻り光遮断方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-346224
公開番号（公開出願番号）：特開平10-185809
出願日： 1996年12月25日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：

【要約】【課題】レーザー光源から発振された光が光学系中で反射して光源に戻るのを、少ない光学部品で簡便にかつ確実に阻止するガス分析装置用光源装置、及び該光源装置を備えたガス分析装置の提供。【解決手段】レーザー光源31と、該光源から出射されたレーザー光を回折して出射する一次回折スリットS0を有する第1のスリット板32と、該第1のスリット板の出射側に設けられ、該レーザ光の光軸を中心とした戻り光遮断部33aとその周縁に設けられた二次回折スリットS1,S2とを有する第2のスリット板33とを備えた戻り光遮断用光源装置30。この光源装置を備えたガス分析装置。

請求項（抜粋）：

レーザー光源と、該光源から出射されたレーザー光を回折して出射する一次回折スリットを有する第1のスリット板と、該第1のスリット板の出射側に設けられ、該レーザ光の光軸を中心とした戻り光遮断部とその周縁に設けられた二次回折スリットとを有する第2のスリット板とを備えたことを特徴とする戻り光遮断用光源装置。

引用特許：

出願人引用 (1件)

ガス濃度測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-055455 出願人：アンリツ株式会社, 東京瓦斯株式会社

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