特許
J-GLOBAL ID：200903035503954200

プラズマCVDによる炭化物コーティング方法

発明者：
杉山 和夫

杉山 和夫 について


出願人/特許権者：
新技術事業団

新技術事業団 について


代理人 (1件)： 小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-274681
公開番号（公開出願番号）：特開平9-087857
出願日： 1995年09月27日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：
【要約】【課題】 金属酸化物の粉体表面に炭化物をコーティングし、粉体を改質する。【解決手段】 金属酸化物の粉体を収容した容器7を真空引きし、容器7を回転させながらメタンと水素との混合ガスを供給すると共に、粉体に周波数1MHz〜10GHzの電磁波を照射してプラズマを発生させ、プラズマによりメタンを分解し、メタンから分解した活性基のCを金属酸化物の格子状酸素と置換することにより、触媒活性の高い炭化物コーティング層を粉体粒子の表面に形成させる。粉体を収容した容器7は、毎分20〜100回転の速度で回転させる。
請求項（抜粋）：
金属酸化物の粉体を収容した容器を真空引きし、前記容器を回転させながらメタンと水素との混合ガスを供給すると共に、前記粉体に電磁波を照射してプラズマを発生させ、該プラズマによりメタンを分解して得られる炭素と前記粉体中の格子状酸素とを置換し、前記粉体の粒子表面に炭化物を付着させることを特徴とするプラズマCVDによる炭化物コーティング方法。
IPC (3件)：
C23C 16/50 ,  C23C 16/32 ,  C30B 29/36
FI (3件)：
C23C 16/50 ,  C23C 16/32 ,  C30B 29/36 Z
引用特許：
審査官引用 (3件)

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