特許
J-GLOBAL ID：200903035528179359

紫外光照射装置および光洗浄装置

発明者：
藤田 義貴

藤田 義貴 について


出願人/特許権者：
ハリソン東芝ライティング株式会社

ハリソン東芝ライティング株式会社 について


代理人 (1件)： 小野田 芳弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-273181
公開番号（公開出願番号）：特開2007-088116
出願日： 2005年09月21日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】 大気中においてワークに真空紫外光を照射する際に、真空紫外光の減衰を抑制するとともに、オゾンおよび活性酸素の濃度を適切に管理することのできる紫外光照射装置およびこれを用いた光洗浄装置を提供する。 【解決手段】 紫外光照射装置UVEは、真空紫外光を発生するエキシマ放電ランプEXLと、エキシマ放電ランプを点灯する高周波点灯回路HFIと、エキシマ放電ランプの真空紫外光照射方向に向かってワークWの周囲に不活性ガスリッチ雰囲気を形成する不活性ガス雰囲気形成手段IGBと、ワークの移動方向に沿って不活性ガス雰囲気形成位置と離間した位置においてエキシマ放電ランプの真空紫外光照射方向に向かってワークの周囲に酸素ガスリッチ雰囲気を形成する酸素ガス雰囲気形成手段O2Bとを具備している。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空紫外光を発生するエキシマ放電ランプと; エキシマ放電ランプを点灯する高周波点灯回路と; エキシマ放電ランプの真空紫外光照射方向に向かってワークの周囲に不活性ガスリッチ雰囲気を形成する不活性ガス雰囲気形成手段と; ワークの移動方向に沿って不活性ガス雰囲気形成位置と離間した位置においてエキシマ放電ランプの真空紫外光照射方向に向かってワークの周囲に酸素ガスリッチ雰囲気を形成する酸素ガス雰囲気形成手段と; を具備していることを特徴とする紫外光照射装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  B08B 7/00 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
H01L21/302 104H ,  B08B7/00 ,  H01L21/30 572A
Fターム (16件)：
3B116AA46 ,  3B116AB14 ,  3B116BC01 ,  5F004AA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB02 ,  5F004BB24 ,  5F004BB29 ,  5F004BC06 ,  5F004BD01 ,  5F004BD03 ,  5F004BD07 ,  5F004DA26 ,  5F004DA27 ,  5F004DB23 ,  5F046MA13
引用特許：
出願人引用 (2件)

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