特許
J-GLOBAL ID：200903035528662386
表面処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 傅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-182161
公開番号（公開出願番号）：特開平5-025643
出願日： 1991年07月23日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：
【要約】【目的】本発明は、ガス置換に要する時間が短時間で済み、この置換に要する不活性ガス量も少量にすることができる表面処理装置を提供することを目的とする。【構成】反応炉と、シャッタ-で開閉される被処理物出入口を有する不活性ガスパ-ジボックスを備え、上記被処理物が前記不活性ガスパ-ジボックスを経由して上記反応炉へ搬入、搬出される表面処理装置において、上記不活性ガスパ-ジボックス20は、上記反応炉1のマニホ-ルド5が開口する主ガスパ-ジボックス21と、当該主ガスパ-ジボックス21に延設され上記主ガスパ-ジボックス21とは内部シャッタ-23で連通、遮断されるとともに上記被処理物出入口21Aを有する小容量の補助ガスパ-ジボックス22からなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
反応炉と、シャッタ-で開閉される被処理物出入口を有する不活性ガスパ-ジボックスを備え、上記被処理物が前記不活性ガスパ-ジボックスを経由して上記反応炉へ搬入、搬出される表面処理装置において、上記不活性ガスパ-ジボックスは、上記反応炉のマニホ-ルドが開口する主ガスパ-ジボックスと、当該主ガスパ-ジボックスに延設され上記主ガスパ-ジボックスとは内部シャッタ-で連通、遮断されるとともに上記被処理物出入口を有する小容量の補助ガスパ-ジボックスからなることを特徴とする表面処理装置。
IPC (3件)：
C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/68
