特許

J-GLOBAL ID：200903035533326530

基板への処理液供給装置

発明者： 森田 彰彦 ,  岩見 優樹
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-130379
公開番号（公開出願番号）：特開平10-308347
出願日： 1997年05月02日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】【課題】 複数の処理液供給系を有した装置において、ユニット内の収納スペースの有効利用を図り、装置コストを低減させる。【解決手段】 複数の処理液供給系の複数のポンプ22a、22b、22cを共通のアクチュエータ48により駆動させ、アクチュエータによるポンプの駆動を択一的に行えるように、アクチュエータから各ポンプへの駆動力の伝達を切り替える駆動切替え手段46a、46b、46cを設けた。

請求項（抜粋）：

基板の表面へ処理液を吐出する吐出ノズルおよびこの吐出ノズルへ処理液を圧送するポンプを備えた処理液供給系を複数有し、それら複数の処理液供給系を択一的に作動させて前記吐出ノズルから基板の表面へ処理液を吐出させるようにした、基板への処理液供給装置において、前記複数の処理液供給系の前記複数のポンプもしくはそれら複数のポンプのうちの2以上のポンプに対し共通のポンプ駆動用アクチュエータを設けるとともに、そのポンプ駆動用アクチュエータにより前記複数のポンプを択一的に駆動させもしくは複数のポンプのうちの2以上のポンプを択一的に駆動させるように、ポンプ駆動用アクチュエータから各ポンプへの駆動力の伝達を切り替える駆動切替え手段を設けたことを特徴とする、基板への処理液供給装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341

FI (7件)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/10 ,  B08B 3/02 B ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 569 C