特許
J-GLOBAL ID：200903035534637989
露光用マスクおよび露光用マスク対
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-093346
公開番号（公開出願番号）：特開平7-301909
出願日： 1994年05月02日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】平行平板状の透明基板の両面に対をなすパターンを精度良くパターニングできる露光用マスク対を提供する。【構成】一対の露光パターン10,20は、互いに対をなす所望のパターン10Aと、所定のパターン20Aを有し、これらを位置合わせするための、位置決め用パターン10B1,10B2、位置合わせ用パターン20B1,20B2、本尺目盛パターン10C1,10C2,副尺目盛パターン20C1,20C2が形成され、位置合わせ用パターンと位置決め用パターンを用いた位置合わせの後、目盛パターンの組合せによる「本尺・副尺」を利用して、微妙な補正を行う。
請求項（抜粋）：
平行平板状の透明基板の片面に形成された感光性材料層に所望のパターンを露光するためのマスクであって、透明平行平板の片面に、上記所望のパターンとともに、位置決め用パターンと、目盛の配列方向が互いに直交する2つの本尺目盛パターンとが形成されていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
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