特許

J-GLOBAL ID：200903035545273210

ボトムレジストの製造方法

発明者： ライナー ロイシユナー ,  レカイ ゼチ ,  ミヒアエル ゼバルト
出願人/特許権者： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 富村 潔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-279430
公開番号（公開出願番号）：特開平5-210243
出願日： 1992年09月24日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：

【要約】【目的】 この種のレジストに対して設定されたあらゆる要件を満足し、特に容易に除去することのできる二層式O2 /RIE系用のボトムレジストを製造する。【構成】 基板上に芳香族含有ベースポリマー、網状化剤及び造酸物からなるラッカ層を施し、層の表面範囲内の造酸物から強酸を遊離するためにラッカ層を投光露光し、熱的に硬化することによりボトムレジストを製造する。

請求項（抜粋）：

二層式O2 /RIE系用ボトムレジストを製造する方法において、基板に芳香族基含有ベースポリマー、網状化剤及び造酸物からなるラッカ層を施し、層の表面範囲内の造酸物から強酸を遊離するためにラッカ層を投光露光し、熱的に硬化することを特徴とするボトムレジストを製造する方法。

IPC (4件)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-181910
  
• 特開昭60-161621
  
• 特開平3-185449
  
• 特開昭61-250637