特許

J-GLOBAL ID：200903035559358723

容量結合型プラズマ発生装置

発明者： 栗本 祐司 ,  森田 春雪
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-088942
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286198
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 容量結合型プラズマ発生装置において、励起交流周波数を高周波化したときの共鳴周波数近傍でのインピーダンスの急激な変化及び電界分布の不均一を緩和し、高周波の導入を容易にすること。【解決手段】 反応ガスの導入を受けるチェンバー(5)と、このチェンバー中に配設された平行平板型の一対の電極(4・7)と、これらの電極に高周波電力を供給し、それによって反応ガス中に高周波プラズマを発生させる高周波電力供給部とを備え、一対の電極(4・7)が、その一方の電極(4)自体に共鳴周波数近傍におけるインピーダンスの急激な変化を緩和可能な抵抗要素を有している容量結合型プラズマ発生装置。

請求項（抜粋）：

反応ガスの導入を受けるチェンバーと、このチェンバー中に配設された平行平板型の一対の電極と、これらの電極に高周波電力を供給し、それによって反応ガス中に高周波プラズマを発生させる高周波電力供給部とを備え、一対の電極の少なくとも一方の電極自体、一対の電極の間、またはこれらの組み合わせに、共鳴周波数近傍におけるインピーダンスの急激な変化を緩和可能な抵抗要素を有することを特徴とする容量結合型プラズマ発生装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Fターム (13件)：

5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BB32 ,  5F004CA03 ,  5F004DA18 ,  5F004DB01 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045DP01 ,  5F045EH01 ,  5F045EH12 ,  5F045EH13 ,  5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-341784   出願人：株式会社日立製作所, 国際電気株式会社
• インダクタンス可変要素を用いた電気的に同調された整合回路網
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-280511   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• プラズマ生成用高周波パワ-の制御方法、およびプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-058635   出願人：名古屋大学長, 株式会社ニッシン