特許
J-GLOBAL ID：200903035575405227
ガス供給装置およびそれを備えたマイクロ波プラズマ成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-245493
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090169
出願日： 1991年09月25日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【目的】原料ガスの供給を独立した二系統以上で行うことにより、反応性の高い混合ガスによる成膜や、膜厚分布の改善を可能にする。【構成】ガス供給装置20をマイクロ波を透過する石英板1等の物質で構成し、内部空間を複数に分離、各々に対して独立にガス供給を行う。これによりモノシランと酸素のように反応性の強いガスを独立に供給することが可能となる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波が透過する物質で構成され、かつ基板から等距離に設置され基板の法線方向にガスを吹き出す複数の吹出口をもつガス供給装置であって、複数のガス供給系をもち、ガスを供給装置外部若しくは吹出口部のみで混合する構造であることを特徴とするガス供給装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/31
